磁控共濺射法在聚碳酸酯柔性基底鍍TiN研究
摘要：在較低的溫度下,采用磁控濺射工藝在聚碳酸酯(PC)表面制備了TiN薄膜。應用激光共聚焦顯微鏡(CLSM)和X射線衍射儀(XRD)等研究了薄膜制備工藝對薄膜的表面微觀形貌和晶質成分影響。結果表明:隨著基底溫度的升高,濺射的薄膜厚度和表面粗糙度增大。濺射的薄膜中,晶粒呈圓錐形,隨著N2含量的增加,濺射的薄膜粗糙度逐漸下降,晶粒較小,分布較均勻。XRD衍射結果表明,濺射的薄膜晶質成分為TiN。
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